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基于面形检测的光学元件多层膜均匀性测量
为了测量光学元件多层膜膜厚均匀性指标,基于面形检测对多层膜均匀性测量方法进行了研究。分析了均匀性的测量过程以及影响因素,评估了元件面形检测复现性对测量结果的影响,建立了多层膜结构的有限元模型,计算分析膜层内应力对基底面形带来的影响。基于高复现性面形检测装置进行了测量方法的实验验证工作,实验结果表明:元件面形测量口径范围内膜厚分布均匀性优于0.1 nm[均方根(RMS)值];将测试结果转化为沿径向的轮廓分布结果,与基于反射率计的膜厚检测数据进行了对比,表明两种方法测试数据基本吻合,验证了基于面形检测方法评估光学元件多层膜均匀性的可行性。
2023-08-26 08:55:59
1.69MB
测量
光刻技术
有限元分
高复现性
1
光刻基本技术
在现代半导体行业中,研发中心对于
光刻技术
的关注是非常重要的。
2023-01-04 12:30:15
14.09MB
光刻技术
1
微立体
光刻技术
研究及应用
综述了国内外最近几年微立体
光刻技术
的研究进展。阐述了微立体
光刻技术
中的线扫描技术及面投影技术的基本原理及分类,分析了它们的技术核心并对相关参数进行了比较。简要阐述了微立体
光刻技术
在制造原型、微系统部件及微流体装置等方面的应用,最后,对该技术的发展前景作了展望。
2022-06-28 15:48:29
804KB
微立体光
微制造
快速原型
1
EUV
光刻技术
-经济高效且适合大规模生产的工艺,晶圆被暴露于波长为13.5纳米的超紫外线(EUV)。通过这种方式,提高了芯片制造商的生产效率和利润。.mp4
EUV
光刻技术
-经济高效且适合大规模生产的工艺,晶圆被暴露于波长为13.5纳米的超紫外线(EUV)。通过这种方式,提高了芯片制造商的生产效率和利润。.mp4
2021-01-30 14:04:18
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EUV光刻技术
1
光刻技术
概述,中科大内部课程,内容详尽
主要内容: 本课程围绕超大规模集成电路制造中的先进
光刻技术
,陈 述与之相关的理论、设备、材料、测量与控制等。为了适应当前先进光 刻的需求,本课程会重点讲述在14nm及以下节点广泛使用的计算光刻、 分辨率增强技术以及设计-工艺联合优化技术等。 • 授课目标: 掌握
光刻技术
的原理,对计算
光刻技术
进行深入研讨 • 授课对象: 微电子学与固体电子学专业,集成电路制造专业研究生
2019-12-21 21:50:48
7.52MB
litho
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