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Elsevier-template-d.doc是双栏模板,Elsevier-template-s.doc是单栏模板
基于matlab IEEE14节点系统潮流计算(牛拉法和PQ分解法)。 两种方法求解IEEE14节点的潮流计算程序,并输出计算结果与迭代次数。经核对,结果计算正确。 另外我也上传了此程序的原理与14节点数据word版,可以进我空间查看下载,谢谢。
科研伦理与学术规范 期末考试2 (40题)
中维世纪云视通是中维公司最新研发的一款基于ios手机操作系统的软件,中维世纪云视通具有全新的界面和一键式操作,可以连接公司所有的云视通设备,包括云视通的视频采集卡、DVR、NVR、IPC。   手机软件可以从Appstore中通过搜索“CloudSEE”、“jovision”“jovetech”、“云视通”、“中维世纪”搜索到CloudSEE并安装,本软件适用于操作系统5.1以上版本的iPhone(包括iPhone5)、iPad。
本程序是自己针对一篇IEEE TCST文章,用matlab编程实现,已验证可以运行。附件有详细的程序使用说明,和对应的文章。适合多智能体的编队或一致性研究的初学者学习。(这个程序上传的时候少了一个m文件,请搜索本人上传的所有资源找到补充文件)
C题 中小微企业的信贷决策 在实际中,由于中小微企业规模相对较小,也缺少抵押资产,因此银行通常是依据信贷政策、企业的交易票据信息和上下游企业的影响力,向实力强、供求关系稳定的企业提供贷款,并可以对信誉高、信贷风险小的企业给予利率优惠。银行首先根据中小微企业的实力、信誉对其信贷风险做出评估,然后依据信贷风险等因素来确定是否放贷及贷款额度、利率和期限等信贷策略。
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。本书覆盖现代光刻技术的重要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺。在设备部分,对业界使用的主流设备进行剖析,介绍其原理结构、使用方法、和工艺参数的设置。在材料部分,介绍了包括光刻胶、抗反射涂层、抗水涂层、和使用旋图工艺的硬掩膜等材料的分子结构、使用方法,以及必须达到的性能参数。本书按照仿真技术发展的顺序,系统介绍基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、亚曝光分辨率的辅助图形、光源-掩模版共优化技术和反演光刻技术。如何控制套刻精度是光刻中公认的技术难点,本书有一章专门讨论曝光对准系统和控制套刻精度的方法。另外,本书特别介绍新光刻工艺研究的方法论、光刻工程师的职责,以及如何协调各方资源保证研发进度。
美国某风电场风速数据及风电功率数据,2012年,数据较多可供研究人员使用,内含数据所在地的经纬度。数据为每5分钟间隔。
基于ray filter的雷达点云地面过滤ROS节点,使用PCL实现,具体参考博客:https://blog.csdn.net/AdamShan/article/details/82901295
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模型预测电流控制MPCC,Matble/simulinkf仿真,2016b版本,可以参考殷芳博的硕士论文:《基于电压矢量快速筛选的永磁同步电机改进预测转矩控制》,里面有相关的算法介绍,可以参考论文进行搭建。
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一个应用于智能交通场景的demo,实现了车辆和行人的追踪检测;车辆不礼让行人检测;车辆非法越线检测;车牌识别的择优迭代;具体参见我的博客:competition1——智能交通场景应用。