CPLEX学术版安装包，没有变量数目限制和约束个数别的限制，可以处理较大规模的问题，做运筹优化方面的小伙伴们很多都用得到。

IEEE33节点配电网Simulink模型，附带有节点和支路数据详细参数和来源文献。数据已经调试完毕，能够正确运行，mdl文件，适用于任何版本。

这个程序是对多智能体的编队控制程序的补充，之前上传少了一个文件，给大家造成的不便深表歉意。特此通知。麻烦管理员把这个资源分数调为0。

《基于S函数的BP神经网络PID控制器及Simulink仿真》这篇论文和论文的S函数以及Simulink模型文件，MATLAB2016b以上版本测试正常运行。

全自动IP扫描，弱口令破解。破解速度快,不存在破解的密码登陆不了.电脑配制好,可以调节破解速度。扫描到Ip,即可自动登陆

安装过程详见博客。该程序主要用来进行电力系统潮流计算，我在这里分享给有需要的同学，我们一起学习，一起进步

之前智能控制课程作业，主要针对倒立摆进行了建模与模糊控制仿真，其中实验1-1是仅针对角度的模糊PID控制，实验1-2是针对位置与角度的分段模糊控制。

里面有两个文件夹，第一个是基础版本，第二个可以触屏改变采样频率，进而优化频率分辨率，使频谱分析更精确。频谱分析（50Hz~200Hz，其他范围内应该也可以）包括了基频，3，5，7次谐波的峰值，波形识别可识别正弦，方波，锯齿波，三角波。硬件为正点原子精英版3.5‘TFTLCD，直接烧写肯定能用。(我的博客里有程序说明)

大唐杯资料+题库（移动通信）

中国地面气候资料日值数据集（V3.0）"包含了中国824个基准、基本气象站本站气压、气温、降水量、蒸发量、相对湿度、风向风速、日照时数和0cm地温要素的日值数据。 2010年~2019年数据

Cisco Packet Tracer v7.0软件 Cisco Packet Tracer v7.0-中小型企业网络建设最终部署文件 与文章中小型企业网络建设-Cisco Packet Tracer v7.0思科网络模拟器实验练习(https://blog.csdn.net/weixin_39329758/article/details/90709777) 相对应，下载对应Cisco Packet Tracer v7.0软件，在软件中打开“中小型企业网络建设.pkt”即可。 等待各个设备加载完毕即可。

RX560 bios合集（请务必注意显存品牌和大小以及是否需要6pin！）含刷新工具.zip 刷新BIOS务必先备份原版BIOS，刷新需谨慎~

**************************************************** ****** 安 装 与 运 行 须 知 ****** **************************************************** 1.下载文件：“画程(版本6.0.0.127)setup.exe” 2.双击运行该文件，安装《画程》软件 如果操作系统是windows 7/windows 8/windows 10，请以管理员身份运行该程序。 3.双击“画程.exe”，可以开始全新的工作。 如果操作系统是windows 7/windows 8/windows 10，请以管理员身份运行该程序。 双击扩展名为.fld的流程图文件，系统将启动“画程.exe”，并打开该流程图文件。 将扩展名为.fld的流程图文件图标拖拽到已经启动的程序“画程.exe”的流程图窗口中释放，程序会打开此流程图文件。 为防外界病毒或木马植入程序，建议安装后查看： “画程.exe”(版本6.0.0.127)的文件指纹（MD5算法），是否与下面一致： 631324A79BB4BB32F79E6814E71298A0 若一致可放心使用，否则请重新下载。 本软件可以作为高中数学老师讲解流程图（程序框图）、算法时的工具使用，能让学生及时看到程序代码及运行结果；也可作为计算机老师讲解算法时的助手，还可供对算法与程序设计感兴趣但刚入门的初学者研习算法之用。不建议程序员使用本软件开发程序。 本软件支持VB6/QBX7.1,C/C++(gcc 3.4.0 MinGW),Java,Python3.X.但Java语言的JDK须自行下载安装,并设置好Java环境变量。Python3.X语言也要自行下载安装，并将Python3.X语言的安装路径录入到Recent.ini文件中[python在本机安装路径]项目后。 伍先军 QQ：359923776 2018年1月27日

1.voc车辆检测数据集，可直接训练，数据已经处理 2.2000张主要包括：轿车、卡车、公交车、摩托车、自行车 3.需要更多数据集请私聊

光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。本书覆盖现代光刻技术的重要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺。在设备部分，对业界使用的主流设备进行剖析，介绍其原理结构、使用方法、和工艺参数的设置。在材料部分，介绍了包括光刻胶、抗反射涂层、抗水涂层、和使用旋图工艺的硬掩膜等材料的分子结构、使用方法，以及必须达到的性能参数。本书按照仿真技术发展的顺序，系统介绍基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、亚曝光分辨率的辅助图形、光源-掩模版共优化技术和反演光刻技术。如何控制套刻精度是光刻中公认的技术难点，本书有一章专门讨论曝光对准系统和控制套刻精度的方法。另外，本书特别介绍新光刻工艺研究的方法论、光刻工程师的职责，以及如何协调各方资源保证研发进度。