光刻技术概述，中科大内部课程，内容详尽
主要内容： 本课程围绕超大规模集成电路制造中的先进光刻技术，陈
述与之相关的理论、设备、材料、测量与控制等。为了适应当前先进光
刻的需求，本课程会重点讲述在14nm及以下节点广泛使用的计算光刻、
分辨率增强技术以及设计-工艺联合优化技术等。
• 授课目标： 掌握光刻技术的原理，对计算光刻技术进行深入研讨
• 授课对象： 微电子学与固体电子学专业，集成电路制造专业研究生
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