光刻技术概述,中科大内部课程,内容详尽

上传者: 44234221 | 上传时间: 2019-12-21 21:50:48 | 文件大小: 7.52MB | 文件类型: pdf
主要内容: 本课程围绕超大规模集成电路制造中的先进光刻技术,陈 述与之相关的理论、设备、材料、测量与控制等。为了适应当前先进光 刻的需求,本课程会重点讲述在14nm及以下节点广泛使用的计算光刻、 分辨率增强技术以及设计-工艺联合优化技术等。 • 授课目标: 掌握光刻技术的原理,对计算光刻技术进行深入研讨 • 授课对象: 微电子学与固体电子学专业,集成电路制造专业研究生

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