主要内容： 本课程围绕超大规模集成电路制造中的先进光刻技术，陈
述与之相关的理论、设备、材料、测量与控制等。为了适应当前先进光
刻的需求，本课程会重点讲述在14nm及以下节点广泛使用的计算光刻、
分辨率增强技术以及设计-工艺联合优化技术等。
• 授课目标： 掌握光刻技术的原理，对计算光刻技术进行深入研讨
• 授课对象： 微电子学与固体电子学专业，集成电路制造专业研究生
2019-12-21 21:50:48
7.52MB
1
C#文件的读取与写入操作及其读取数据处理（注释详尽，相对路径，直接运行，测试成功！）
2019-12-21 21:11:11
23KB
1
软件项目开发计划模板，带有详尽填写说明，已绘制具体的计划表格。分为22个部分，囊括了软件开发计划的所有需要填写的各个主题。
2019-12-21 21:07:59
404KB
1