匀胶工艺流程 匀胶设备立体图 匀胶单元的结构 匀胶单元运行设置 热板及冷板单元的结构 冷热板运行设置 AD单元的结构 AD单元运行设置 显影单元的结构 匀胶膜厚的控制 影响光刻胶厚度和均匀性的主要参数 显影单元的结构 显影喷头的类型 显影程序的设置 影响显影尺寸及均匀性的主要参数 排风气流对显影均匀性的影响 显影液流量对显影尺寸的影响 显影前烘烤温度对显影尺寸的影响 显影后烘烤温度对显影尺寸的影响 数据库系统
2024-07-02 20:30:26 9.65MB
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visi工艺技术课件 接着前面的,part3
2023-03-15 22:43:38 11.21MB vlsi 工艺
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计量站自动计量工艺原理.pdf,这是一份不错的文件
2022-07-08 14:04:53 1.52MB 文档
第二讲 平版印刷工艺原理.ppt
2022-04-06 01:08:33 5.17MB 精品文档
vlsi工艺技术课件 接着前面的,这是part2
2021-11-30 21:37:33 18.55MB vlsi 工艺
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vlsi工艺原理的课件 基于《硅超大规模集成电路工艺技术——理论实践与模型》(silicon visi technology——fundamentals,practice and modeling)的很好的参考资料 共三卷,这是第一卷
2021-11-30 21:35:17 18.55MB vlsi 工艺
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IGBT工艺原理介绍,功率器件
2021-07-26 15:02:03 513KB IGBT 功率器件 制造工艺
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最详细的MOSFET工艺原理介绍
2021-07-26 15:02:00 1.88MB MOSFET 工艺原理
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化学除磷主要是通过化学沉析过程完成的,化学沉析是指通过向污水中投加无机金属盐药剂与污水中溶解性的盐类(如磷酸盐)反应生成颗粒状、非溶解性的物质。实际上投加化学药剂后,污水中进行的不仅是沉析反应,同时还发生着化学絮凝作用,即形成的细小的非溶解状的固体物互相粘结成较大形状的絮凝体。 污水沉析反应可以简单的理解为:水中溶解状的物质,大部分是离子状物质转换为非溶解、颗粒状形式的过程,絮凝则是细小的非溶解状的固体物互相粘结成较大形状的过程,所以絮凝不是相转移过程。絮凝是用于改善沉淀池的沉淀效果,而沉析则用于污水中溶解性磷的去除。 1.2 化学除磷药剂 为了生成非溶解性的磷酸盐化合物,用于化学除磷的化学药剂主要是金属盐药剂和氢氧化钙。许多高价金属离子药剂投加到污水中后都会与污水中的溶解性磷离子结合生成难溶解性的化合物,但出于经济原因考虑,用于磷沉析的金属盐药剂主要是Fe3+盐、Fe2+盐和Al3+盐,这些药剂是以溶液和悬浮液状态使用的。除金属盐药剂外,氢氧化钙也用作沉析药剂,反应生成不溶于水的磷酸钙。
烟气脱硫(FGD)设备及工艺原理、工艺流程PPT教程.rar
2021-05-17 10:02:50 2.36MB 烟气脱硫(FGD)设备及工艺原理