EUV光刻技术-经济高效且适合大规模生产的工艺，晶圆被暴露于波长为13.5纳米的超紫外线（EUV）。通过这种方式，提高了芯片制造商的生产效率和利润。.mp4
2021-01-30 14:04:18
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光刻十步法：表面准备—涂光刻胶—软烘焙—对准和曝光—显影—硬烘焙—显影目测—刻蚀—光刻胶去除—最终目检.doc
2021-01-28 12:08:30
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一个关于微纳加工的课件，讲了微纳加工的发展、光刻、力学、热学、摩擦等等。不错的，值得看
2020-01-03 11:21:49
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主要内容： 本课程围绕超大规模集成电路制造中的先进光刻技术，陈
述与之相关的理论、设备、材料、测量与控制等。为了适应当前先进光
刻的需求，本课程会重点讲述在14nm及以下节点广泛使用的计算光刻、
分辨率增强技术以及设计-工艺联合优化技术等。
• 授课目标： 掌握光刻技术的原理，对计算光刻技术进行深入研讨
• 授课对象： 微电子学与固体电子学专业，集成电路制造专业研究生
2019-12-21 21:50:48
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