一、一阶工艺参数的提取
1. Bsim4 模型中的 mos 管共包含多少个参数?
答:297
2. 找到栅氧化层厚度 toxref,计算单位面积的栅氧化层电容(介质为 SiO2,
计算结果以 fF/μm2为单位)。
答:Cox=11.5fFd/um^2
3. 低压 NMOS(cell name 为 nmos2,model name 为 nch)尺寸为 10μ/0.18μ,
漏源电压为1.8V,在栅源电压分别为1V和1.5V时仿真出器件的漏电流。
在此两组数据的基础上根据长沟道模型计算出 unCox(W/L)及 VTHN
答:栅源电压为1V时,如图
栅源电压为1.5V时,如图
由公式id=1/2unCoxw/l(VGS-VTH)^2可以得到:
VTH=1.2V
4. 根据第 3 问得到的参数,在漏源电压为 1.8V,栅源电压为 1.2V 时重新计
算漏电流的大小。将此结果与仿真结果进行比较,误差为多少?
答:Vds=1.2V时,仿真如图
由id=1/2unCoxw/l(VGS-VTH)^2可得到id=2.99mA 误差为0.19mA.
二、共源级放大器设计
1. 设计一个电流源做负载的共源级,如下图所示。
要求供电电压 1.8V,电流源提供的偏置电流为 0.35mA,输入管为 NMOS,
要求器件面积尺寸尽可能小,低频增益不小于 30。