超大规模集成电路先进光刻理论与应用

上传者: lcjie | 上传时间: 2021-08-03 05:56:13 | 文件大小: 195.49MB | 文件类型: RAR
超大规模集成电路先进光刻理论与应用.pdf
Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography (SPIE Press Monograph Vol. PM189).pdf
合集

文件下载

资源详情

[{"title":"( 2 个子文件 195.49MB ) 超大规模集成电路先进光刻理论与应用","children":[{"title":"Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography (SPIE Press Monograph Vol. PM189).pdf <span style='color:#111;'> 75.70MB </span>","children":null,"spread":false},{"title":"超大规模集成电路先进光刻理论与应用(2016).pdf <span style='color:#111;'> 120.85MB </span>","children":null,"spread":false}],"spread":true}]

评论信息

  • lemonfuture :
    是自己需要的资源,两本合集都是韦亚一的著作,特别棒,非常感谢!!!
    2021-07-12
  • zhuang1127 :
    资源确实不错,谢谢分享
    2020-11-28
  • u013704543 :
    确实是光刻方面两本书的合集,积分很值,内容也很值,感谢分享!
    2020-01-01

免责申明

【只为小站】的资源来自网友分享,仅供学习研究,请务必在下载后24小时内给予删除,不得用于其他任何用途,否则后果自负。基于互联网的特殊性,【只为小站】 无法对用户传输的作品、信息、内容的权属或合法性、合规性、真实性、科学性、完整权、有效性等进行实质审查;无论 【只为小站】 经营者是否已进行审查,用户均应自行承担因其传输的作品、信息、内容而可能或已经产生的侵权或权属纠纷等法律责任。
本站所有资源不代表本站的观点或立场,基于网友分享,根据中国法律《信息网络传播权保护条例》第二十二条之规定,若资源存在侵权或相关问题请联系本站客服人员,zhiweidada#qq.com,请把#换成@,本站将给予最大的支持与配合,做到及时反馈和处理。关于更多版权及免责申明参见 版权及免责申明