gdsCAD-Python中的简单GDSII设计
gdsCAD是一个简单但功能强大的Python软件包，用于创建，读取和操作GDSII布局文件。 它适合脚本编写和交互式使用。 它在生成带有多个增量调整对象的设计时尤其出色。 gdsCAD使用matplotlib可视化从单个几何图元到整个布局的所有内容。
文献资料
完整的文档可以在以下位置找到：
/＃
下载
可以通过easy_install在以下位置下载软件包以进行安装：
画廊
一个简单的例子
这是一个简单的示例，显示了一些具有对齐功能的文本的创建。 它涉及图形几何， Cell和Layout 。 结果保存为GDSII文件，并显示在屏幕上：
import os.path
from gdsCAD import *
# Create some things to draw:
amarks = templates.AlignmentMarks(
2021-10-28 20:13:41
452KB
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先进光刻工艺EUV相关知识，适合对半导体工艺有兴趣的人员，或者是从事光刻工艺的工程师
2021-10-19 12:02:54
3.94MB
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R软件代码转换为matlab
锂光
它是什么？
Optolithium是一种光学光刻（请参阅参考资料）建模软件，可用于在处理的不同步骤中计算结果。
它是开源软件，并不旨在与高端VLSI制造技术节点相对应。
该项目的主要目标是研究学生的纳米技术过程的基础知识（例如，光学光刻）。
Optolithium是指软件，可用于模拟光刻过程的不同阶段。
在当前版本中，可以模拟以下阶段：
航空影像
抵抗中的航拍图像
抗蚀剂中曝光的潜像
光刻胶中的PEB潜像
制定时间轮廓
抵抗轮廓
也可以使用最多两个参数可变的自动仿真集。
目前，仅实现了2D抗蚀剂轮廓建模，但路线图的重点之一是增加了3D模拟的可能性。
下图显示了365
nmCraft.io过程的抗蚀剂轮廓模拟结果：
Optolithium软件主窗口的屏幕快照，其中包含抗蚀剂中的航拍图像的模拟结果，作为光强度的分布。
在此图中也可以看到驻波的影响。
什么是内部？
该程序可以视为两个主要部分：
核心（OptolithiumC）-软件的一部分，需要高性能计算和整个列表，数组等的不同迭代。
GUI（OptoltihiumGui）-与用户进行交互的另一部分。
该
2021-09-29 13:52:56
12.22MB
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半导体行业存在周期性，主要受两个因素影响，宏观经济和技术革新。1）宏观经济变化影响人们消费能力和意愿，通过下游市场需求影响整个行业景气 度；2）技术革新通过刺激下游消费意愿甚至强制改变市场格局。以2020年为锚，5G商用化、数据中心、物联网、智慧城市、汽车电子等一系列新技术 及市场需求做驱动，给予半导体行业新的动能。 半导体设备对行业周期变化敏感，行业周期性变化必然伴随产能的增减和产品的迭代。产能变化对应设备数量的变化，工艺变化对应设备的迭代，新一 轮增长周期有望带动设备需求。集成电路产业链主要包含电路设计、晶圆制造和封装测试三个部分，其中制造和封测环节与设备、材料息息相关。 半导体设备总市值
2021-09-22 17:09:41
5.2MB
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光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%。
2021-09-16 13:37:38
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