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在对随机弱散射屏进行表面参数的原子力显微镜测量和建立了门积分取样平均的随机光强自相关函数测量系统的基础上，对弱散射屏在严格像面和离焦像面上产生的散斑自相关函数进行了测量。发现在严格像面上，散斑平均颗粒的大小随表面粗糙度增加而减小，且光强自相关函数次极大的相关间隔宽度随粗糙度增加而减小；而次极大的起伏随粗糙度的增大而增大；在离焦像面上，离焦量的增加使光强的自相关函数下降变得平滑，并使极小值点和次极大点变得不明显或者消失。

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该讲义《光学系统的设计与校正》为耶拿大学光学设计大师Herbert Gross编写，对于像差理论及校正方法有详细阐述，光学设计相关人员可参考。

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