主要内容： 本课程围绕超大规模集成电路制造中的先进光刻技术，陈
述与之相关的理论、设备、材料、测量与控制等。为了适应当前先进光
刻的需求，本课程会重点讲述在14nm及以下节点广泛使用的计算光刻、
分辨率增强技术以及设计-工艺联合优化技术等。
• 授课目标： 掌握光刻技术的原理，对计算光刻技术进行深入研讨
• 授课对象： 微电子学与固体电子学专业，集成电路制造专业研究生
2019-12-21 21:50:48
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仝茂达 线性系统理论和设计 （教材 加 前七章答案）（中科大第一版 ）考研必备！
2019-12-21 21:47:48
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内容包括endnotex9和endnotex8安装包及安装教程！
还有中科大和陕西师范大学的视频使用教程~~~~一共几十个视频，详细讲解！！！！！！！超值
本人研究僧一枚 上传的所有资源都亲自用过 好用才会上传
如果不能用 留下邮箱 看到后会尽快联系帮忙解决
2019-12-21 21:45:29
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