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基于全息光刻系统制备528 nm
周期孔阵
图形
基于GaAs衬底采用全息光刻和湿法刻蚀技术制备
周期孔阵
图形。得出全息光刻双曝光最优曝光时间为60 s。采用H3PO4∶H202∶H2O=1∶1∶10 配比的刻蚀液,得出最佳刻蚀时间为30 s。扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)测试图片显示,孔阵周期为528 nm,刻蚀深度为124 nm,具有完美的表面形貌及良好均匀性和周期性。
2021-02-07 20:06:06
1.9MB
光学制造
全息光刻
双曝光
周期孔阵
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