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双层光刻胶技术-微电子工艺
双层光刻胶技术-微电子工艺
上传者:
42198780
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上传时间: 2022-06-21 23:22:16
|
文件大小: 1.63MB
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文件类型: PPT
工艺
双层光刻胶技术 随着线条宽度的不断缩小,为了防止胶上图形出现太大的深宽比,提高对比度,应该采用很薄的光刻胶。但薄胶会遇到耐腐蚀性的问题。由此开发出了 双层光刻胶技术,这也是所谓 超分辨率技术 的组成部分。
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