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图形的保真度-集成电路制造工艺之光刻与刻蚀工艺
图形的保真度-集成电路制造工艺之光刻与刻蚀工艺
上传者:
42195978
|
上传时间: 2021-12-27 21:31:38
|
文件大小: 1.67MB
|
文件类型: -
集成电路
芯片制造
8.10.1、图形的保真度 经过腐蚀之后图形,通常呈现为三种情况, 设纵向腐蚀速率为Vv、侧向腐蚀速率为Vl。 图(a),Vl =0,腐蚀只沿纵向进行,为各向异性腐蚀。 图(b)和(c),在纵向腐蚀的同时,侧向也进行了腐蚀。若Vv = Vl ,为各向同性腐蚀。
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