上传者: 38649657
|
上传时间: 2021-02-26 17:04:54
|
文件大小: 2.3MB
|
文件类型: PDF
对氧化物薄膜的双离子束溅射沉积作了系统地实验研究。考察了离子束溅射工艺参数对薄膜光学特性的影响,制备了折射率接近于块材料的TiO2和ZrO2薄膜,显著降低了TiO2、ZrO2和SiO2薄膜的光吸收损耗,TiO2和ZrO2薄膜的抗激光损伤阈值得到显著提高。用双离子束溅射沉积1.06 μm多层高反膜,得到了大于99.5%的高反射率,经高温退火处理的双离子束溅射沉积高反膜的抗激光损伤阈值同热蒸发沉积的高反膜相比有所提高。