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IC Mask Design Essential Layout Techniques
IC Mask Design Essential Layout Techniques
上传者:
redtiger8092
|
上传时间: 2021-06-18 16:20:21
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文件大小: 11.74MB
|
文件类型: PDF
IC
Mask
Design
集成电路掩模设计
IC Mask Design Essential Layout Techniques 中文版:北京:清华大学出版社,2006 译名: 集成电路掩模设计:基础版图技术/(美)塞因特(Saint Christopher),塞因特(Saint Judy)著 周润德,金申美译
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评论信息
wscywscy2012 :
介绍是中文版,却是英文版...
2012-12-16
electronstar :
模拟IC设计入门的好书
2012-09-20
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