TSMC 65nm工艺库中EMXProc文件配置与优化技巧解析

TSMC 65nm工艺库中EMXProc文件的关键配置及其对射频电路仿真准确性的影响。作者分享了自己在2.4GHz VCO项目中遇到的问题及解决方法，强调了材料属性、金属层厚度、衬底电阻率等重要参数的正确设置对于获得准确仿真结果的重要性。文中还提供了具体的配置示例以及一些实用的操作建议，如使用--calibrate参数进行校准、检查金属边缘粗糙度设置、确保介质层叠顺序正确、保持足够的衬底接触网格密度等。此外，还介绍了一个提高效率的小技巧，即利用Matlab和Python自动化工具来加速参数调优过程。 适合人群：从事射频集成电路设计的研究人员和技术工程师，特别是那些需要使用TSMC 65nm工艺库进行电磁仿真工作的专业人士。 使用场景及目标：帮助用户掌握EMXProc文件中各个参数的具体含义及其对仿真结果的影响，避免因参数设置不当而导致的仿真误差，从而提升工作效率并减少试错成本。 阅读建议：由于涉及到较多的专业术语和技术细节，在阅读过程中可以结合实际项目经验进行理解和应用，必要时查阅相关文献资料加深认识。