OpenGL多重采样 MultiSample debug MultiSample.sdf MultiSample.sln

1.现在我们扩展法线贴图的概念——从纹理图像用于扰动法向量到扰乱顶点位置本身。实 际上，以这种方式修改对象的几何体具有一定的优势，例如使表面特征沿着对象的边缘可 见，并使特征能够响应阴影贴图。我们将会看到，它还可以帮助构建地形。 2.openGL高度贴图,使用纹理图像来存储高度值，然后使用该高度值来提升（或降低）顶 点位置。含有高度信息的图像称为高度图，使用高度图更改对象的顶点的方法称为高度贴 图 3. 高度图通常将高度信息编码为灰度颜色：（0,0,0）（黑色）=低高度，（1,1,1）（白色）=高高度。这样一来通过算法或使用“画图”程序就可以轻松创建高度图。图像的对比度越高，其表示的高度变化越大。 4.改变顶点位置是否有用取决于改变的模型。顶点操作可以在顶点着色器中轻松完成，当 模型顶点细节级别够高（例如在足够高精度的球体中）时，改变顶点高度的方法效果很好。但是，当模型的顶点数量很少（例如立方体的角）时，渲染对象的表面需要依赖于光栅器中的顶点插值来填充细节。 5.当顶点着色器中可用于改变高度的顶点很少时，许多像素的高 度将无法从高度图中检索，而需要由插值生成，从而导致表面细节较差。当然

1.openGL增强表面细节，模拟地球表面地形，使用高度贴图实现 2.现在我们扩展法线贴图的概念——从纹理图像用于扰动法向量到扰乱顶点位置本身。实 际上，以这种方式修改对象的几何体具有一定的优势，例如使表面特征沿着对象的边缘可 见，并使特征能够响应阴影贴图。我们将会看到，它还可以帮助构建地形。 3.一种实用的方法是使用纹理图像来存储高度值，然后使用该高度值来提升（或降低）顶 点位置。含有高度信息的图像称为高度图，使用高度图更改对象的顶点的方法称为高度贴 图①。高度图通常将高度信息编码为灰度颜色：（0,0,0）（黑色）=低高度，（1,1,1）（白色）=高高度。这样一来通过算法或使用“画图”程序就可以轻松创建高度图。图像的对比度越 高，其表示的高度变化越大 4.改变顶点位置是否有用取决于改变的模型。顶点操作可以在顶点着色器中轻松完成，当 模型顶点细节级别够高（例如在足够高精度的球体中）时，改变顶点高度的方法效果很好。 但是，当模型的顶点数量很少（例如立方体的角）时，渲染对象的表面需要依赖于光栅器 中的顶点插值来填充细节。当顶点着色器中可用于改变高度的顶点很少时，许多像素的高 度将无法从高度

测试环境：xcode13.3 MacPro13-inch2020 M1 OpenGL版本：OpenGL 4.5 语言：c++17 测试图片格式：bmp 建议： 1.先完成xcode配置OpenGL工程环境，网上有教程。 2.本程序支持读取任意分辨率的bmp图片，并显示。

测试环境：xcode13.3 MacPro13-inch2020 M1 OpenGL版本：OpenGL 4.5 语言：c++17 描述：实现简单的球体爆炸效果

计算机图形学作业 单个py文件

openGLGouraud关照效果，包括环境光、漫反射、镜面光，键盘鼠标事件 1.Gouraud 着色也容易受到其他伪影影响 2.如果镜面高光整个范围都在模型中的一个三角 形内——即高光范围内一个模型顶点也没有——那么它可能不会被渲染出来。由于镜面反射 分量是依顶点计算的，因此，当模型所有顶点都没有镜面反射分量时，其光栅化后的像素 也不会有镜面反射光。

1.阴影贴图是用于投射阴影最实用也最流行的方法之一。虽然它并不总是像阴影体一样准 确（且通常伴随着讨厌的伪影），但阴影贴图实现起来更简单，可以在各种情况下使用，并 享有强大的硬件支持。 2.阴影贴图基于一个非常简明的想法：光线无法看到的任何东西都在阴影中。也就是说， 如果对象＃1 阻挡光到达对象＃2，等同于光不能“看到”对象＃2。

1.目前我们所展示的阴影生成方法都仅限于生成硬阴影，即带锐边的阴影。 2.但是，现实世界中出现的大多数阴影都是柔和阴影。它们的边缘都会发生不同程度的模糊 3.柔和阴影的成因有很多，同时也有许多类型的柔和阴影。通常在自然界中产生柔和阴影 原因是，真实世界的光源很少是点光源——它们常常是区域光源。另一个原因是材料和表面 的缺陷积累，以及物体本身通过其自身的反射特性产生环境光的作用。

1.openGL软阴影，消除硬阴影，消除阴影中的锯齿，和伪影 2.生成柔和阴影——百分比邻近滤波（PCF） 3.有多种方法可以用来模拟半影效果以在软件中生成柔和阴影。最简单也最常见的一种方 法叫作百分比邻近滤波（Percentage Closer Filtering，PCF） 4.在PCF 中，我们对单个点周围 的几个位置的阴影纹理进行采样，以估计附近位置在阴影中的百分比。