该资料为施敏半导体器件的答案,英文版的,少数题有错,对想直接抄的同学而言是种考验。
2021-09-20 09:06:06 638KB 半导体 答案 施敏
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ITE98XX相关资料,包括硬件规格书,SDK帮助文档,开发说明文档等等,网上找这资料太难了!!!!
2021-09-19 16:38:46 55.03MB ITE联阳半导体
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半导体封装工艺讲解——芯片制造流程课件PPT.pdf
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IT互联网行业公司软件项目创业方案程序开发商业计划书模板资料
2021-09-17 21:01:34 421KB 软件开发
2021半导体设备-系列报告之一:全行业框架梳理
2021-09-17 14:03:16 3.74MB 半导体设备报告
matlab优化泊松方程代码漂移扩散模型 这是用Python编写的一维模型,该模型使用有限差分求解半导体泊松漂移扩散方程。 该模型模拟了光照下的太阳能电池,但也可以适用于其他半导体器件。 可以对其进行修改以解决其他系统(即,通过更改边界条件,添加重组率和修改生成率)。 使用称为Gummel方法的自洽迭代方法求解方程。 为了确保连续性方程的数值稳定性,使用了Scharfetter Gummel离散化以及新旧解决方案的线性混合。 表现 使用Numba @jit装饰器可以加速代码。 示例CPU时间:不使用Numba:469.7秒使用Numba:73.7秒 得出的结论是,Numba的工作量很轻,而且性能显着提高。 您可以在此处阅读有关Numba的信息: C ++和Matlab实现 您可以在这里找到相同模型的C ++和Matlab实现以及2D和3D版本: 性能比较: 对于网格尺寸为dx = 0.25nm,系统尺寸为300nm的一维代码: Python:69.8秒Matlab:40秒C ++:3.7秒 因此,当前的C ++版本要快得多,可能具有阅读不太优雅的缺点。
2021-09-17 09:55:48 419KB 系统开源
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光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上,为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3,耗费时间约占整个硅片工艺的40~60%。
2021-09-16 13:37:38 303KB 半导体光刻工艺及光刻机全解析
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silvaco官方推荐最新 半导体器件模拟仿真设计学习指南 PDF 400+ 很值得高年级学生/工程师参考
2021-09-15 20:37:26 10.01MB 半导体 光电子 模拟 分析
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Agilent EasyEXPERT User' Guide.For Agilent B1500A Users and Agilent B1505A Users.
2021-09-15 12:44:16 5.71MB 半导体测试 Agilent User' Guide
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电子电路设计Donald A Neaman-半导体部分(中文版) Electronic Circuit Analysis and Design
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