Essential Macleod光学薄膜设计与分析软件PPT Essential Macleod是功能强大且完备的光学薄膜设计与分析软件，能够在Microsoft Windows操作系统下运行。该软件具有真正的多文档操作界面，满足光学镀膜设计中的各种要求。用户可以从头开始设计，也可以优化已有的设计；可以观测在设计生产中的误差，也可以导出薄膜的光学常数。 软件特点： 1. 使用简便：常见的用户界面；广泛的使用剪贴板；高质量曲线；真正的多文档界面； 2. 用户自定义单位：任意定义波长、频率、厚度、时间的单位； 3. 逆向工程：n、k值导出；非均匀性和吸收，堆砌密度的变化；固定缩放比例；灵活的限制性优化。 性能计算： 1. 反射系数；透射系数；反射相位；透射相位；密度；偏振角，偏振相位；群时延；群时延色散；三价色散； 2. 颜色：在Tristimulus、Chromaticity、CIE L*a*b*、CIE L*u*v*、Hunter Lab系统下计算。用户可定义的光源；用户可定义的观测； 3. 材料：提供标准的材料数据库；多数据库，如：不同的温度、镀膜机、不同的项目、不同的客户、不同的系统；材料数据容易输入；数据图标显示；强大的编辑器。 设计工具： 1. 膜层逆转、材料替换、公式设计、膜厚缩放比例、匹配的角度，不邻近膜层的剪切、拷贝和粘贴。 2. 透射滤光器设计、非极性化边缘滤光器和平衡膜层（Herpin）参数的计算。 分析工具： 1. 导纳图表；反射系数图表；绝对电场幅度图；非极化边缘滤波片设计工具；对称平衡层（Herpin）计算。 优化： 1. Optimac法；Simplex法；模拟退火法； 2. 目标：对包括颜色的所有的参数确定目标清单；从外部源输入目标数据；链接。 合成： 1. Optimac技术也可以在合成模块里操作，为了达到需要的规格在设计时它可以增加或者移走膜层。 2. 合成也可用于改善现有的设计，或者从一个材料清单和规格里产生设计。 Essential Macleod是功能强大且完备的光学薄膜设计与分析软件，能够满足光学镀膜设计中的各种要求。该软件提供了多样化的工具支持设计过程，强大的分析和设计功能，使用户能够轻松地设计和优化光学薄膜。

给出了螺旋型手性分子薄膜表面反射方向的圆二向色性的谐波强度表示式,分析了谐波的强度与手性分子的取向、分子的螺距和半径等结构参数的关系,给出了数值模拟结果.发现在入射光强一定的情况下,谐波强度在螺距和半径的取值范围内分别存在着最大值,以及螺距与半径之间满足的关系式随分子取向角的变化而不同.

局域结构畸变对Co2FeAl0.5Si0.5合金薄膜中磁有序的影响，叶双莉，翟敏，本文通过磁控溅射与原位真空退火，制备了一系列的Heusler合金Co2FeAl0.5Si0.5 (CFAS)，退火温度分别为350oC, 450oC, 550o和 650oC。利用XRD, 变温拉�

绒面ZnO透明导电薄膜，朱锋，薛玉明，采用孪生ZnO (Al2O3:2%)对靶直流磁控溅射制备高透过率、高电导率的平面ZnO薄膜（迁移率为5.56 cm2/V•s，载流子浓度为4.57×1020cm-3，电阻�

射频磁控共溅射制备Li-La-Ti-Zr-O薄膜电解质，农剑，徐华蕊，以Li0.33La0.56TiO3（LLTO）与Li7La3Zr2O12（LLZO）粉末靶材为溅射源，用射频磁控共溅射的方法制备Li-La-Ti-Zr-O薄膜电解质。在室温条件下，其离�

采用电泳沉积法在Ti片上制备TiN薄膜,在450℃下保温60min制备N掺杂TiO2薄膜（N-TiO2薄膜）,然后在不同浓度的AgNO3溶液中利用光还原沉积法制备负载Ag的N-TiO2薄膜。利用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和紫外-可见吸收光谱（UV-Vis）对薄膜进行表征,通过测试瞬态光电流密度研究薄膜的光电性能,并以罗丹明B为降解目标物评价薄膜的光催化活性,重点研究了负载Ag对N-TiO2薄膜光电和光催化性能的影响规律。结果表明:AgNO3溶液浓度为0.05mol·L-1时,Ag的负载量最为适宜,N-TiO2薄膜的光电及光催化性能最佳;负载Ag的N-TiO2薄膜在可见光下的瞬态光电流密度约为N-TiO2薄膜的5.4倍;负载Ag显著提高了N-TiO2薄膜的光催化性能,经过可见光照射180min后,薄膜对罗丹明B的降解率达到98%。

异质界面对Ca(Mg1/3Nb2/3)O3/CaTiO3叠层介质薄膜结构和性能的影响，刘存金，周静，采用叠层方式制备出一定厚度的Ca(Mg1/3Nb2/3)O3/CaTiO3（CMN/CT）异质薄膜，研究叠层排布方式及异质界面个数对薄膜微观结构、形貌及介电性�

晶体学取向对0.90(Bi0.5Na0.5)TiO3-0.10(Bi0.5K0.5)TiO3 薄膜压电和介电性能的影响，李朋，翟继卫，为了深刻的研究晶体取向对薄膜的压电和介电性能的影响，本文利用溶胶-凝胶法在(100)、(110)、(111)取向的Nb掺杂的SrTiO3单晶基片上制备了

掺杂铬（Cr）的氧化锌ZnO薄膜通过金属有机化学气相沉积（MOCVD）技术在420°C的温度下以不同的掺杂剂浓度沉积在玻璃基板上。 研究了铬浓度对薄膜的形态，结构，光学，电学和气敏性能的影响。 扫描电子显微镜结果表明，Cr的浓度对结晶度，表面光滑度和晶粒尺寸有很大的影响。 X射线衍射（XRD）研究表明，薄膜本质上是多晶的，并以六方纤锌矿结构生长。 从光学测量获得3.32至3.10 eV的直接光学带能隙。 发现透射率随着Cr掺杂浓度的增加而降低。 卢瑟福背散射光谱（RBS）分析还表明，Cr离子可替代地掺入ZnO中。 薄膜的IV特性显示，室温下的电阻率范围为1.134×10-2·cm至1.24×10-2·cm。 通过在最佳工作温度约为200°C的条件下掺入Cr作为掺杂剂，可以增强薄膜的气体传感响应。

已经通过各种技术（X射线衍射，IR-TF光谱，扫描电子显微镜，拉伸试验和耐热性）研究了用高岭土和偏高岭土增强的淀粉基塑料薄膜的结构和热机械性能。 所得结果表明，惰性材料高岭土可防止淀粉失去其颗粒状结构并在加热过程中溶解，从而产生低杨氏模量（7 MPa）的塑料膜。 另一方面，偏高岭土是将高岭土在700℃加热1小时后得到的无定形和脱羟基的材料，大大改善了塑料膜的热机械性能。 杨氏模量从19 MPa增加到25 MPa，而热阻从90°C增加到120°C。 这归因于在加热过程中淀粉的粒状结构损失之后偏高岭土在聚合物基质中的良好分散。