化学气相沉积是半导体工业经常使用的工艺,用于在晶片衬底上生长高纯度硅,基于comsol对超高真空化学气相沉积进行模拟,依靠输入流量和压力控制,可得到表面气相分布分数。
2022-11-07 10:14:36 3.78MB comsol UHV/CVD 分子流 APP
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