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Hall effect of reactive sputtered iron nitride nanocrystalline films
Hall effect of reactive sputtered iron nitride nanocrystalline films
上传者:
38748875
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上传时间: 2024-03-22 09:17:13
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文件大小: 908KB
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文件类型: PDF
首发论文
反应溅射氮化铁纳米晶薄膜的霍耳效应,米文博,封秀平,采用反应溅射法制备氮化铁纳米晶薄膜。随着氮气流量的增加,薄膜中的主要相从α-Fe(N)转变为ξ-Fe2N,导电机制也从金属性向半导体特性
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