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化学机械抛光中晶圆/抛光垫表面接触分析
化学机械抛光中晶圆/抛光垫表面接触分析
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38696458
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上传时间: 2022-06-27 16:46:20
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文件大小: 853KB
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文件类型: PDF
首发论文
化学机械抛光中晶圆/抛光垫表面接触分析,杜诗文,蒋名国,基于接触力学和流体动力学理论分析了抛光过程中的摩擦学行为,建立了简化的化学机械抛光过程中的有限元模型。通过工艺参数、材料
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