二氧化硅纳米粒子的烧结制备和表征多孔二氧化硅整体
本文旨在制造超过厘米大小的具有大表面积介孔的多孔二氧化硅整料。 通过在600°C至1100°C的温度下烧结整体式SiO2-聚（乙烯醇）（PVA）纳米复合材料可获得多孔二氧化硅整体式的前体。 通过拉曼光谱和孔隙率法检查烧结行为。 SiO2-PVA纳米复合材料的PVA在低于600oC的温度下燃烧，随后将纳米复合材料的二氧化硅纳米颗粒在900oC以上的温度下烧结。 拉曼光谱表明，在1000℃以上获得的多孔二氧化硅整体结构的无定形结构与二氧化硅玻璃相似。 多孔二氧化硅整体料的BET表面积和孔半径随着烧结温度的升高而降低。 这些值是在ca范围内定制的。 通过控制烧结温度和时间分别为0-291 m2.g-1和5-25 nm。 取决于孔径，所制造的多孔二氧化硅整料是半透明或不透明的多孔二氧化硅。
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