基于TSMC 18nm工艺的两级运算放大器设计与优化 - Cadence电路设计工具的应用
内容概要：本文详细介绍了基于TSMC 18nm工艺的两级运算放大器设计流程，涵盖从设计目标确定、原理图设计与仿真、版图设计到最终性能优化的全过程。文中明确了设计目标，包括低频增益87dB、相位裕度80度、单位增益带宽积30MHz以及压摆率116V/us。通过Cadence电路设计工具进行原理图设计并进行仿真验证，确保电路性能符合预期。随后进行版图设计，确保版图通过DRC和LVS验证，并不断优化电路性能直至达到设计目标。最后总结了设计经验和对未来发展的展望。
适合人群：从事模拟集成电路设计的专业人士，尤其是熟悉Cadence工具和TSMC工艺的工程师。
使用场景及目标：适用于希望深入了解两级运算放大器设计流程及其优化方法的技术人员，旨在提升电路设计技能和解决实际工程问题。
其他说明：本文不仅提供了具体的设计步骤和技术细节，还分享了许多宝贵的实践经验，有助于读者在未来的设计工作中借鉴和应用。
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