半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。芯片在生产中需要进行20-30次的光刻，耗时占到IC生产环节的50%左右，占芯片生产成本的1/3。 此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶，就实现了电路图从掩模到硅片的转移。 负性光刻使用的光刻胶在曝光后会因为交联而变得不可溶解，并会硬化，不会被溶剂洗掉，从而该部分硅片不会在后续流程中被腐蚀掉，负性光刻光刻胶上的图形与掩模版上图形相反。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量

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Android四大基本组件介绍与生命周期Android四大基本组件分别是Activity，Service服务,ContentProvider内容提供者，BroadcastReceiver广播接收器。 　　Android四大基本组件介绍与生命周期 　　Android四大基本组件分别是Activity，Service服务,ContentProvider内容提供者，BroadcastReceiver广播接收器。 　　一:了解四大基本组件 　　Activity: 　　应用程序中，一个Activity通常就是一个单独的屏幕，它上面可以显示一些控件也可以监听并处理用户的事件做出响应。 　　Activity

关于Pytorch的MNIST数据集的预处理详解 MNIST的准确率达到99.7% 用于MNIST的卷积神经网络（CNN）的实现，具有各种技术，例如数据增强，丢失，伪随机化等。 操作系统：ubuntu18.04 显卡：GTX1080ti python版本：2.7（3.7） 网络架构 具有4层的CNN具有以下架构。 输入层：784个节点（MNIST图像大小） 第一卷积层：5x5x32 第一个最大池层 第二卷积层：5x5x64 第二个最大池层 第三个完全连接层：1024个节点 输出层：10个节点（MNIST的类数) 用于改善CNN性能的工具 采用以下技术来改善CNN的性能。 1. Data au

上移动端的测试课，老师和同学们用的都是eclipse, 只有我一个人用的是idea（用了两款软件之后觉得IDEA更好），真的太难了，配置环境就只有一个人孤军奋战了，自己选择的路，爬都要爬完，害！   有大佬推荐我用Android studio，去了解了一下，这个软件也不错，考虑到已经用了IDEA那就用吧。 操作环境和基本配置 操作环境：Win 10 基本环境配置：Java 1.8 基本工具：IDEA（自行下载安装购买，支持正版！） 一、jdk的下载安装与配置  1.1下载安装 jdk的官网下载地址 https://www.oracle.com/java/technologies/javase/

信息论与编码习题详解 傅祖云 电子工业出版社

本教材全面系统地介绍了现代计算机操作系统的基本概念、原理和实现方法。全书共分十二章，第一章讲述了现代操作系统的发展概况；第二章至第十章分别阐述了操作系统的基本原理 、概念和实现方法，包括中断技术，进程和线程的管理、进程的同步和通信，存储器管理，虚似存储器，处理机调度，死锁问题，设备管理和文件系统；第十一章介绍了UNIX操作系统，第十三章介绍Windows2000/XP操作系统，并较详细地分析了这两个系统的基本结构、主要的功能模块及其相互之间的关系。本书吸收了国内外近几年出版的同类教材的优点，内容丰富，既可以作为计算机和相关专业的教材，也可作为从事计算机工作人员的参考书。