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论文研究-非支配排序均匀遗传算法.pdf
根据第二代非支配排序遗传算法(NSGA Ⅱ)的不足之处,提出了一种新的多目标遗传算法——非支配排序均匀遗传算法(NSUGA)。新算法采用了多父本多点交叉方式,同时将均匀设计的思想用于算法的交叉操作;新算法还对拥挤距离的计算过程和算法的终止条件进行了改进。通过两个多目标优化测试函数的仿真计算对比,显示NSUGA算法在求解精度、计算效率和避免算法陷于局部最优解方面均优于NSGA II算法。
2023-03-25 20:42:01
502KB
多目标遗传算法
多目标优化
多父本多点交叉
非支配排序
均匀设计
1
基于光学扩展量的LED均匀照明反射器的设计
针对发光二极管(LED)光源的发光特点, 根据非成像光学的光学扩展量理论建立了获得均匀照明反射器的一般方程, 实现了在特定目标面上的均匀照明, 进而依据该方程设计了用于体视显微镜的LED照明系统。利用TracePro软件对所设计的系统进行光线追迹仿真, 结果表明在Φ90 mm的范围内照度均匀性达到90.6%, 不考虑反射率损失时能量利用率可达到99.6%。该设计方案采用单一反射器实现均匀照明, 为实现照明系统小型化和简单化提供了一种有效的途径。
2023-03-21 15:09:31
2.51MB
光学设计
非成像光
均匀照明
光学扩展
1
基于功率谱的高精度大气湍流相位屏的快速模拟
分析了基于非均匀采样功率谱反演大气湍流相位屏的算法, 该算法可进行并行处理, 并引入图形处理单元(GPU), 在不影响模拟精度的前提下有效提高了相位屏的模拟速度。利用Kolmogorov功率谱, 基于GPU技术生成大气湍流相位屏; 对相位屏的模拟精度、模拟速度和误差进行统计分析, 并与理论值进行比较。结果表明利用GPU技术模拟的大气湍流相位屏与理论值非常吻合, 具有很高的模拟速度和精度, 大幅提高了大气湍流相位屏的生成速度。
2023-03-15 19:26:48
6.89MB
大气光学
大气湍流
功率谱
非均匀采
1
计算机辅助几何设计与非均匀有理B样条
《计算机辅助几何设计与非均匀有理B样条》是施法中编的,很经典,适合你全面了解曲线曲面 已经转换为pdf格式
2023-03-10 11:40:15
9.56MB
CAGD
nurbs
pdf
施法中
1
论文研究-非均匀多通道雷达杂波数据仿真与分析 .pdf
非均匀多通道雷达杂波数据仿真与分析,施小林,程宇峰 ,本文给出了非均匀多通道雷达杂波在几种常见的杂波模型中的计算机仿真方法,方法简单易行。仿真实验表明,采用本文的方法,非均匀
2023-03-03 09:50:01
275KB
杂波
1
添加均匀噪声:将范围从 0 到 255 的均匀噪声添加到灰度图像。-matlab开发
addnoise(A,sz) A:图像矩阵sz:图像的噪声比(0 到 100) 该函数取图像和噪声比,然后输出具有均匀噪声的灰度图像。 均匀噪声范围从 0 到 255。
2023-03-02 15:34:19
1KB
matlab
1
MATLAB仿真均匀磁场
MATLAB仿真,如何使用有限导线和有限电流在有限空间中产生近似均匀磁场
2023-03-02 10:37:02
7KB
MATLAB
电磁场
1
圆艾里高斯涡旋光在各向异性非Kolmogorov湍流大气中的传输
采用非均匀采样与功率谱反演法产生与湍流尺度相关的各向异性非Kolmogorov湍流随机相位屏,进而利用空间光调制器模拟研究圆艾里高斯涡旋光束在大气湍流中的漂移特性和轨道角动量态变化。数值模拟和光学实验结果均表明,圆艾里高斯涡旋光束的漂移值随光束衰减系数、光束主半径、大气湍流外尺度和传输距离的增大而增大,随湍流各向异性系数和光束拓扑荷值的增大而减小,并且在湍流幂律值为3.3附近有极大值。此外,通过对比圆艾里高斯涡旋光束经过大气湍流前后的干涉条纹图样,发现整数阶时拓扑荷值越小,光束经过湍流之后拓扑荷值稳定性就越好。
2023-03-01 19:20:08
17.66MB
大气光学
非均匀采
圆艾里高
空间光调
1
均匀量化和非均匀量化比较.zip
均匀量化和非均匀量化比较matlab实现
2023-02-28 00:14:40
83.57MB
PCM
hack
1
通过调整曝光镜头改善产品线宽均匀度的研究.pdf
自问世以来的半个多世纪, 微电子和集成电路技术可谓发展神速, 其中光刻 技术的发展起到了重要推动作用。 而作为光刻技术发展的重要指标, 不断缩小的 关键尺寸则对如何改善产品线宽均匀度(Critical Dimension Uniformity, CDU) 等关 键参数提出了更高的要求。 光刻机焦平面偏差(Total Focus Deviation, TFD) 精度就 与产品线宽均匀度 CDU 的好坏有着紧密联系, 甚至会影响到产品的最小线宽。 因 此通过提高光刻机镜头的 TFD 精度, 可以达到改善产品线宽均匀度 CDU, 提高良 率的目的。
2023-02-23 10:29:13
12.54MB
半导体
光刻
1
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