研究了一类在Neumman边界条件下具有扩散的Holling-Tanner模型。首先，利用比较原理得到了模型一致持续生存的充分条件。其次，通过构造迭代函数，利用上下解方法，得到模型正常数解的全局渐近稳定性。

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tanner的安装教程，用这个一定可以装成功，WIN7也装成功了

学IC设计的童鞋会感兴趣的。这是台湾国科会晶片中心（CIC）的一个教程，里面包括从电路图设计，模拟，到版图设计到设计规则检查各个方面。

台湾大学教程，分十个章节介绍了tanner软件的各部分用法

里面包含了L_Edit从创建文件到绘图再到LVS对比layout和sch的全部过程，是给力的资料！

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高速的光网络使世界各地的人们得以即时交流和分享想法。微小的MEMS光开关在这些数量庞大的光纤系统中发挥着重要作用。此类开关涉及机械、光学和电气三个领域，因而是适宜作为利用Tanner EDA工具进行MEMS设计和仿真学习的器件。

该资源为本书上册。超星阅读器打开（pdg格式）【打不开的话请尝试：用户名ouyangweihe,密码123456】 本书分为两册出版，共分10篇56章。其中：上册包括1~3篇：L-Edit版图编辑器(1~12章)、SPR(标准单元布图布线，13~21章)、LVS(电路-版图比较器，22~26章)；下册包括4~10篇：S-Edit电路图编辑器(27~32章)、NetTran网表转换器(33~36章)、T-Spice电路模拟器(37~40章)、T-Spice语言(41~47章)、W-Edit波形观察器(48~54章)、电路分析实例(55~56章)、菜单命令； 书后还包括一个结束语和索引。 本书内容丰富、详实，结构合理、条理清晰，并且具有很强的实用价值。本书既可作为从事集成电路研究、设计、开发、生产和应用的科技人员以及从事微电子、微光学、微机械等微系统版图设计与其他微细加工技术领域的各行各业科技人员的技术参考书，同时也可作为高等院校微电子专业、半导体专业、电路设计等专业师生的参考书和实用教材。

本次分享的是“L-Edit”软件，它是由Tanner 公司开发的版图设计工具（现已被Mentor公司收购）。相较于Virtuoso工具，L-Edit的优点就是它能直接在Windows系统上运行，可以很方便地在个人电脑中安装使用。本文提供一份Tanner EDA.Ledit，V13安装包资源