内容概要:本文详细介绍了TSMC 28nm工艺库的应用,涵盖SPICE模型、PDK文档、低功耗设计等方面。首先,文章展示了如何利用工艺库进行反相器仿真,强调了关键参数如W/L设置的影响。接着,讨论了design rule文档的作用,特别是在金属层间距要求方面的指导。此外,文章还探讨了VerilogAMS在混合信号仿真中的应用,以及ESD保护结构的设计。针对低功耗设计,文中提到PVT模型的精细划分及其在不同环境下的应用,并提供了蒙特卡洛分析的具体实例。最后,文章分享了一些实用技巧,如仿真不收敛时的解决方案和可靠性数据的重要性。
适合人群:从事芯片设计、仿真工作的工程师和技术人员,尤其是对28nm工艺感兴趣的初学者和有一定经验的研发人员。
使用场景及目标:帮助工程师更好地理解和应用TSMC 28nm工艺库,提高仿真精度和设计效率,确保设计符合工艺规范并优化性能。
其他说明:文章不仅提供了详细的理论解释,还结合实际案例和代码片段,使读者能够快速上手并应用于实际项目中。同时,提醒读者注意版本匹配和参数调整,避免常见错误。
2025-04-15 14:38:25
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