平面型(NPN)三极管制作工艺
在 N 型硅片(集电区)氧化膜上刻一个窗口,将硼杂质进行扩散形成 P 型(基区),再在 P 型区上刻窗口,将磷杂质进行扩散形成N型的发射区。引出三个电极即可。
合金型三极管制作工艺:在 N 型锗片(基区)两边各置一个铟球,加温铟被熔化并与 N 型锗接触,冷却后形成两个 P 型区,集电区接触面大,发射区掺杂浓度高。
N
c
SiO2
b
硼杂质扩散
e
磷杂质扩散
磷杂质扩散
磷杂质扩散
硼杂质扩散
硼杂质扩散
P
N
2021-11-18 21:03:02
7.02MB
模拟电子
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