在线统计过程控制（SPC，Statistical Process Control）系统是一种用于监控和改进生产过程质量的工具，它通过收集和分析实时数据，帮助制造企业确保产品的质量和一致性。在本毕业设计课题《基于SPC的产品质量在线分析系统》中，我们将深入探讨SPC的核心概念和其在实际生产环境中的应用。 我们需要理解SPC的基本原理。SPC基于统计学原理，通过图表如控制图（Control Charts）来监测生产过程中的关键特性，如尺寸、重量、强度等，以确定过程是否处于受控状态。控制图上有两个关键线：平均值线（Center Line）和上下控制限（Upper and Lower Control Limits），它们可以帮助识别出过程中的异常变化。 在在线SPC系统中，数据的实时收集和处理至关重要。系统通常会与生产设备或其他传感器集成，自动捕获生产数据，然后进行计算和分析。这样可以快速发现任何偏离正常操作的迹象，及时采取措施防止不良品的产生，从而减少浪费，提高效率。 该毕业设计可能涉及以下关键知识点： 1. **数据采集**：理解如何从生产线上的设备或传感器中收集数据，这可能涉及到物联网（IoT）技术和接口编程。 2. **数据预处理**：清洗和整理收集到的数据，去除异常值，确保分析的有效性。 3. **统计分析**：使用统计方法，如均值、标准差、极差（R）和西格玛（σ）计算，以及绘制控制图，如X-bar图、R图或P图。 4. **决策规则**：学习并应用控制图的决策规则，判断过程是否稳定，何时需要采取行动。 5. **报警与反馈机制**：设计系统能在过程出现异常时触发报警，并指导操作员进行相应的调整。 6. **可视化界面**：创建用户友好的图形界面，展示控制图和其他关键性能指标，便于管理层和一线员工理解过程状态。 7. **系统集成**：与企业资源计划（ERP）、制造执行系统（MES）等其他业务系统的集成，实现全生产流程的无缝监控。 8. **持续改进**：通过SPC系统发现的问题，推动实施纠正措施和预防措施，持续优化生产过程。 9. **法规合规性**：了解在特定行业（如医药、汽车等）中，SPC在质量管理体系中的法规要求，如ISO 9001、GMP等。 这个毕业设计课题提供了一个实践SPC理论的机会，通过实际项目锻炼学生的数据分析能力、编程技能和问题解决能力，同时也有助于理解和应用质量管理的理论知识。完成这样一个项目，学生将能够为未来的工业4.0和智能制造环境做好准备。

TS 16949 五大工具(APQP、FMEA、MSA、SPC、PPAP)参考手册及培训教材 │APQP - AIAG Manual.pdf │APQP 2008 第二版 英文版.pdf │APQP 2008 第二版 中文版.pdf │APQP 2008 第二版 中英文版.pdf │APQP 第三版 中文.doc │APQP_cn_Manual.doc │APQP_cn_Manual.pdf │FMEA - AIAG Manual.pdf │FMEA 2008 第四版 英文版.pdf │FMEA 2008 第四版 中文版.pdf │FMEA 2008 第四版 中英文版.pdf │FMEA Handbook Version 4.1，2004英文.pdf │FMEA_cn_Manual.doc │FMEA_cn_Manual.pdf │MSA - AIAG Manual.pdf │MSA_cn_Manual.doc │MSA_cn_Manual.pdf │PPAP - AIAG Manual.pdf │PPAP 4 英文版勘误表.pdf │PPAP_cn_Manual.doc │PPAP_

TS16949：2009-SPC统计过程控制培训教材(第二版)-最新版

SPC 芯片 TLF35584源代码，汽车ECU高性能电源芯片英飞凌TLF35584源码

分享一个不错的SPC类： 可自动分组，可统计正态分布

本文主要介绍了SPC控制图判异标准与异常处理方法

梁德丰，钱省三，梁静（上海理工大学工业工程研究所/微电子发展中心，上海 200093）摘要：由于半导体制造工艺过程的复杂性，一般很难建立其制造模型，不能对工艺过程状态有效地监控，所以迫切需要先进的半导体过程控制技术来严格监控工艺过程状态，而SPC就是其中最重要的一种技术。本文针对SPC做了简要概述，着重论述了根据半导体生产工艺的特点来实现其在半导体晶圆厂的实际应用。 关键词：半导体；SPC；过程控制；控制图 中图分类号：TN301 文献标识码： A 文章编号：1003-353X(2004)03-0058-03 1 前言 近年来，半导体制造技术经历了快速的改变,技术的提升也相对地增加了工艺过程的

梁德丰，梁静，钱省三（上海理工大学工业工程研究所/微电子发展中心，上海 200093）摘要：由于半导体制造工艺过程的复杂性，一般很难建立其制造模型，不能对工艺过程状态作有效的监控，所以迫切需要先进的半导体过程控制技术来严格监控工艺过程状态，而SPC就是其中最重要的一种技术。本文着重论述了半导体晶圆厂的SPC与传统行业的不同之处。 关键字：半导体；SPC；过程控制；控制图 中图分类号：TN301 文献标识码： A 文章编号：1003-353X(2004)05-0035-034 SPC控制的方法简介 SPC是通过对线上参数进行分析，来对生产过程进行监控和预测。主要包括数据采集，数据整理和数据分析三

1. 基于Python flask架构 2. 开发了SPC控制图算法，并在前端实时展现

To understand this text there are some prerequisites. A basic foundation in lithography science is assumed. The SPIE Handbook on Microlithography, Micromachining and Microfabrication. Volume 1: Microlithography l provides a suitable introduction. It is also assumed that the reader has had some introduction to basic statistical concepts and statistical process control. It is my intention that this text be a self-contained tutorial on lithography process control for readers familiar with the prerequisite lithography science and basic statistical process control, although some subjects may involve a higher level of mathematical sophistication than others. The text covers the subject of lithography process control at several levels. Discussions of some very basic elements of statistical process control and lithography science are included, because, when trying to control a lithography process, a number of subtle problems arise that are related to fundamental issues. To most readers, the information presented on the foundations of statistical process control should be familiar. Nevertheless, it is useful to review the foundations of statistical process control, in order to clearly identify those circumstances in which the method may be applied, and where it needs to be applied with particular care. This inclusion of basic topics also allows the text to serve as an introduction to process control for the novice lithography engineer and as a reference for experienced engineers. More advanced topics are also included to varying