课程内容： 1 离子注入及其原理 1.1 离子注入掺杂 1.2 离子注入设备及工作原理 1.2.1 离子源 1.2.2 初聚系统 1.2.3 磁分析器 1.2.4 加速器 1.2.5 扫描器 1.2.6 偏束板 1.2.7 靶室 1.3 离子注入的杂质分布曲线 1.3.1 离子注入杂质分布的峰值在体内 1.3.2 峰值以内的杂质分布为高斯分布 2 晶格损伤及处理 2.1 晶格损伤 2.1.1 损伤原因 2.1.2 影响晶格畸变的因素 2.1.3 晶格损伤对器件性能的影响 2.2

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