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蓝宝石选择性激光
刻蚀
技术的研究进展
蓝宝石选择性激光
刻蚀
技术的研究进展 ,宋学辉,曲正坤,蓝宝石是红外光学、衬底材料、高温高压环境光学元件的重要材料,在军事和民用领域都有广泛应用。然而,因蓝宝石的高硬度和高化学
2023-12-01 22:30:23
603KB
首发论文
1
半导体制造-
刻蚀
工艺介绍.doc
半导体制造-
刻蚀
工艺介绍.doc
2022-12-11 09:18:58
1.57MB
湿法
刻蚀
工艺和干法
刻蚀
工艺的比较?-光刻与
刻蚀
工艺
湿法
刻蚀
工艺和干法
刻蚀
工艺的比较? 干法
刻蚀
优缺点: 分辨率高 各向异性腐蚀能力强 均匀性、重复性好 便于连续自动操作 成本高,选择比一般较低 湿法
刻蚀
的优缺点: 成本低廉 选择比高 各向同性 腐蚀速率难以控制
2022-08-16 19:29:05
10.1MB
电子
1
第八章光刻与
刻蚀
工艺.ppt
光刻与
刻蚀
工艺
2022-05-25 19:05:03
5.86MB
文档资料
光刻与刻蚀工艺
光刻与
刻蚀
工艺.ppt
光刻与
刻蚀
工艺.
2022-05-24 19:06:54
16.13MB
文档资料
光刻与刻蚀工艺.
优化
刻蚀
以改善垂直型氮化镓功率电子器件的选区掺杂-综合文档
优化
刻蚀
以改善垂直型氮化镓功率电子器件的选区掺杂
2022-05-21 19:16:53
1.46MB
优化
刻蚀
改善
垂直型
1
复杂的几何
刻蚀
例子-Silvaco仿真软件的使用方法
(2)复杂的几何
刻蚀
例子: 下面的例子
刻蚀
掉了以(0.8,0)(0.8,-0.15)(1.2,-0.15)(1.2,0)为坐标顶点的矩形氧化物区域. ETCH OXIDE START X=0.8 Y=0.0 ETCH CONTINUE X=0.8 Y=-0.15 ETCH CONTINUE X=1.2 Y=-0.15 ETCH DONE X=1.2 Y=0.0
刻蚀
前
刻蚀
后
2022-01-18 10:50:48
3.35MB
微电子设计
1
图形的保真度-集成电路制造工艺之光刻与
刻蚀
工艺
8.10.1、图形的保真度 经过腐蚀之后图形,通常呈现为三种情况, 设纵向腐蚀速率为Vv、侧向腐蚀速率为Vl。 图(a),Vl =0,腐蚀只沿纵向进行,为各向异性腐蚀。 图(b)和(c),在纵向腐蚀的同时,侧向也进行了腐蚀。若Vv = Vl ,为各向同性腐蚀。
2021-12-27 21:31:38
1.67MB
集成电路
芯片制造
1
行业文档-设计装置-书写式导电体表面电化学
刻蚀
方法及其装置.zip
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刻蚀
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2021-11-27 22:04:00
199KB
刻蚀
(ETCH)工艺的基础知识.docx
刻蚀
etch 工艺基础知识,适合刚入门的工艺工程师或者刚毕业从事半导体制造的毕业生参考和学习
2021-10-26 18:02:56
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半导体
工艺
蚀刻(etch)
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