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湿法刻蚀工艺和干法刻蚀工艺的比较?-光刻与刻蚀工艺
湿法刻蚀工艺和干法刻蚀工艺的比较? 干法刻蚀优缺点: 分辨率高 各向异性腐蚀能力强 均匀性、重复性好 便于连续自动操作 成本高,选择比一般较低 湿法刻蚀的优缺点: 成本低廉 选择比高 各向同性 腐蚀速率难以控制
2022-08-16 19:29:05
10.1MB
电子
1
第八章
光刻与刻蚀工艺.
ppt
光刻与刻蚀工艺
2022-05-25 19:05:03
5.86MB
文档资料
光刻与刻蚀工艺
光刻与刻蚀工艺.
ppt
光刻与刻蚀工艺.
2022-05-24 19:06:54
16.13MB
文档资料
光刻与刻蚀工艺.
图形的保真度-集成电路制造工艺之光刻与刻蚀工艺
8.10.1、图形的保真度 经过腐蚀之后图形,通常呈现为三种情况, 设纵向腐蚀速率为Vv、侧向腐蚀速率为Vl。 图(a),Vl =0,腐蚀只沿纵向进行,为各向异性腐蚀。 图(b)和(c),在纵向腐蚀的同时,侧向也进行了腐蚀。若Vv = Vl ,为各向同性腐蚀。
2021-12-27 21:31:38
1.67MB
集成电路
芯片制造
1
集成电路制造工艺之
光刻与刻蚀工艺.
ppt
集成电路制造工艺之光刻与刻蚀工艺,
2021-09-22 17:02:34
1.67MB
集成电路
芯片制造
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硅集成电路工艺基础:第八章
光刻与刻蚀工艺.
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硅集成电路工艺基础:第八章
光刻与刻蚀工艺.
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2021-09-19 09:02:10
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第八章光刻与刻蚀工艺PPT课件.ppt
第八章光刻与刻蚀工艺,第八章光刻与刻蚀工艺课件,第八章光刻与刻蚀工艺PPT
2021-03-29 22:03:52
1.60MB
第八章光刻与刻蚀工艺
光刻中刻蚀工艺特点.doc
光刻中刻蚀工艺特点.doc
2021-02-03 23:35:00
18KB
光刻
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