湿法刻蚀工艺和干法刻蚀工艺的比较? 干法刻蚀优缺点: 分辨率高 各向异性腐蚀能力强 均匀性、重复性好 便于连续自动操作 成本高,选择比一般较低 湿法刻蚀的优缺点: 成本低廉 选择比高 各向同性 腐蚀速率难以控制
2022-08-16 19:29:05 10.1MB 电子
1
光刻与刻蚀工艺
2022-05-25 19:05:03 5.86MB 文档资料 光刻与刻蚀工艺
光刻与刻蚀工艺.
2022-05-24 19:06:54 16.13MB 文档资料 光刻与刻蚀工艺.
8.10.1、图形的保真度 经过腐蚀之后图形,通常呈现为三种情况, 设纵向腐蚀速率为Vv、侧向腐蚀速率为Vl。 图(a),Vl =0,腐蚀只沿纵向进行,为各向异性腐蚀。 图(b)和(c),在纵向腐蚀的同时,侧向也进行了腐蚀。若Vv = Vl ,为各向同性腐蚀。
2021-12-27 21:31:38 1.67MB 集成电路 芯片制造
1
集成电路制造工艺之光刻与刻蚀工艺,
2021-09-22 17:02:34 1.67MB 集成电路 芯片制造
1
硅集成电路工艺基础:第八章 光刻与刻蚀工艺.ppt
2021-09-19 09:02:10 3.93MB
第八章光刻与刻蚀工艺,第八章光刻与刻蚀工艺课件,第八章光刻与刻蚀工艺PPT
2021-03-29 22:03:52 1.60MB 第八章光刻与刻蚀工艺
光刻中刻蚀工艺特点.doc
2021-02-03 23:35:00 18KB 光刻
1