Python-3.7.10.tgz

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用低温光致发光技术,研究了硅单晶中浅能级杂质和热处理引进的缺陷,得到各种浓度掺棚和掺磷的硅的光致发光光渚,并作出了相应的定量分析.实验中已探测到的硼的浓度低达5×10~(11)cm~(-3).观察了光致发光强度与激发光强度的关系,还用光致发光技术分析了450℃附近热处理引进的热施主的行为.结果表明,低温光致发光可以作为测量高纯半导体单晶硅中微量杂质硼和磷的含量及分析热处理硅单晶中的缺陷的有效手段.

LDMOS器件设计中， 常采用RESURF技术来提高器件的性能。文中主要研究具有RESURF技术结构的LDMOS器件， 围绕当获得最优的器件结构时， 其外延层单位面积杂质密度Ntot不是定值这一现象展开研究， 给出了一种关于外延层单位面积杂质密度Ntot的近似解析表达式。经过大量的模拟仿真及数据分析， 发现在最优器件结构中均匀掺杂的外延层单位面积杂质密度Ntot与衬底掺杂浓度存在有规律的函数关系。最终， 通过综合分析影响器件的关键因素， 得到了最优器件的外延层单位面积杂质密度Ntot与衬底掺杂浓度的关系函数。