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为满足精密测量领域精度高、可靠性强、实时性好的测量要求, 提出一种基于Zemax仿真的激光追踪测量光学系统能量分析方法。根据激光追踪测量光学系统原理, 建立激光追踪测量光学系统能量模型, 利用Zemax仿真分析非理想光学元件对光学系统能量的影响。仿真结果表明, 干涉分光镜的分光比为5∶5且追踪分光镜的分光比为7∶3时, 四路干涉信号能量接近, 条纹对比度达到0.89, 干涉效果最好。偏振分光镜反射率在非理想条件下, 四路干涉信号的条纹对比度会下降。偏振分光镜透射率在非理想条件下不影响四路干涉信号的条纹对比度。该研究对激光追踪测量系统的精度提升、可靠性评估、光学系统设计和光学元件选择具有指导意义。

利用波前像差的泽尼克(Zernike)模式分解, 分析了光学系统的静态像差和动态像差与系统的光束质量β因子间的关系。建立了静态和动态Zernike像差系数与β间的计算表达式, 并用数值计算方法得到了前65阶静态和动态Zernike像差与β间的近似公式拟合系数。在此基础上建立了符合科尔莫哥诺夫(Kolmogorov)大气湍流引起的动态Zernike像差与β间的对应关系。数值计算结果验证了该分析结论和得到的近似计算公式的正确性。

用于测量光学系统的分辨率，或者说MTF，准确来说是SFR。MATLAB主程序。

分析了出瞳扫描方式扫描视场角与激光雷达光学系统参数的关系，认为最大扫描现场角比主天线望远镇静态视场角小。在信号过程线性的前提下，根据强度像的瑞利判据提出了扫描激光雷达角分辨率公式建议。对主要结论都进行了实验验证。

光学系统的视场大小用两种方法表示 线视场：对近距离成像的光组，常用能看到的物平面直径来表示。 视场角：对远距离或无限远物体成像的光组，常用角度来表示其视场的大小。 这就是前面谈到过的物方视场角2ω和像方视场角2ω'。

投影式光刻机是微电子产业中极大规模集成电路的加工设备。 照明系统和投影物镜系统是投影式光刻机的重要组成部分， 其性能的好坏对光刻成像质量起决定性作用。 研究照明系统和投影物镜系统的性能对光刻性能的影响对光刻投影曝光系统的设计以及光刻系统的性能评估具有一定的指导意义。

分离式终端光学系统(FOA)的光学元件多,输出能量高,鬼像分布复杂,给FOA的鬼像分析带来很大的挑战。利用Zemax结合自主研发软件Ghost对分离式FOA的鬼像分布进行优化设计,建立针对真空窗口和屏蔽片的角度及其与聚焦透镜的间距对FOA中鬼像分布影响的分析模型,经仿真计算得到两种适合于分离式FOA的鬼像分布方案,对比其优缺点,最终确定合理的分离式FOA鬼像分布设计方案。

本文档讲述的是对非序列的光学系统的优化，对初学者有一定的帮助

变焦距光学系统设计_陶纯堪 PDF电子书