以Ta2O5为初始膜料, 采用电子束蒸发制备了Ta2O5薄膜, 以空气和氩气分别作退火保护气氛, 以X射线粉末衍射仪(XRD)为测试手段研究了退火后薄膜的结构, 用分光光度计测试了薄膜在可见光及近红外波段的透射率, 利用透射率极小值计算了几个典型波段的折射率。研究了保温时间、保温温度、保护气氛对Ta2O5薄膜透射率和折射率的影响。试验结果表明, 对Ta2O5薄膜进行300～600 ℃下保温2 h的退火处理, 对透射率影响不大; 500 ℃下保温4 h退火处理获得的薄膜折射率最大; 对Ta2O5薄膜进行氩气保护中400 ℃下保温2 h,4 h的退火处理, 近紫外波段内的透射率峰值降低, 可见光波段的透射率峰值升高, 折射率提高。与空气中处理的试样相比较, 氩气保护中试样的透射光谱发生红移, 折射率明显提高; Ta2O5薄膜在≤600 ℃下退火后仍为非晶态。

本文报道用准光波导方法测量了沉积在棱镜底面上的聚苯乙烯和聚醚砜薄膜,确定了这两种聚合物薄膜的折射率和薄膜厚度.并用偏振光测定了其双折射.薄膜折射率测量误差为±1×10~(-3),薄膜厚度测量误差为±0.01μm.

本文论述气相混合蒸镀的实验方法,介绍了三种控制程序,给出了两种宽带增透膜的实验镀制结果.实验表明,气相混合蒸镀技术具有极大的应用潜力.

利用中心波长1064 nm、脉宽12 ns、重复频率5 Hz的NdYAG激光系统，对800 nm、0° Ta2O5/SiO2高反膜进行三种能量台阶数的激光预处理扫描改性；控制扫描速度使辐照脉冲能量重叠70%的峰值能量，辐照模式1-on-1。利用Ti：sapphire激光系统输出800 nm、135 fs超短脉冲激光进行损伤测试。结果表明，纳秒激光表面改性并未提高Ta2O5/SiO2膜飞秒激光诱导损伤阈值，三种台阶数的预处理改性均使Ta2O5/SiO2膜的阈值降低20%以上。说明缺陷(本征的或激光诱导产生的，如带间电子态)对氧化物介质膜的飞秒损伤过程有重要贡献，而这种贡献在样品经过纳秒激光改性后

为制备出在130~210 nm波段具有良好光谱性能的铝反射膜，优化设计了铝反射镜中铝层和保护层氟化镁的厚度，理论确定铝层和氟化镁保护层最佳厚度分别为80 nm和33 nm。采用热舟蒸发工艺，在BK7基片上制备了Al反射膜样品，获得了130~210 nm波长范围内反射率均大于80%的金属铝膜。研究了铝层沉积速率和紫外辐照处理对薄膜性能的影响，并考察了铝膜光谱性能的时效性。结果表明铝层沉积速率越快，制备的铝膜反射率越高；合理地存放铝膜元件，可以长时间内保持铝膜的光谱性能。适当的紫外辐照处理能进一步提高铝膜在真空紫外波段的反射率。

采用射频磁控溅射和热退火处理技术制备SiNx/Si/SiNx多层薄膜，测试了纳米硅晶粒平均尺寸、光学带隙和薄膜对1064 nm激光的非线性吸收系数。建立SiNx/Si/SiNx多层薄膜被动调Q的Nd:YVO4双波长激光器速率方程，得到双波长调Q脉冲的数值模拟结果。在激光二极管(LD)端面抽运的三镜复合腔Nd:YVO4激光器中，SiNx/Si/SiNx多层薄膜作为可饱和吸收体同时实现了双波长激光被动调Q，获得20 ns的1064 nm激光脉冲和19 ns的1342 nm激光脉冲输出。研究表明，薄膜对1064 nm和对1342 nm的双光子饱和吸收是双波长激光被动调Q的直接原因；激光器两个支腔输出损耗的差别和薄膜对两个波长的非线性吸收系数的相对值影响了双波长脉冲的宽度和时间间隔。

热扩散测量通常是在样品两个侧面上以接触方式进行的。当后侧面不能接近或被牢固地安在衬底上时，这种测量就不太行。但使用脉冲激光感应热辐射术进行没有实体接触的热扩散测量的单端法则是完全可行的。

日立制作所成功地完成了液氮中响应光的髙温超导开关元件的原理实验。在Y-Ba-Cu系氧化物薄膜上开一个沟槽，使薄膜更薄，从而使超导电流难于通过,形成了控制超导电流的区域（弱连接部：指在更薄的部分，其超导性变弱，即形成约瑟夫森结），在超导薄膜两端加上电极，便构成这种髙温超导元件。

金属网栅和氧化铟锡(ITO)等透明导电膜是实现电磁屏蔽和可视兼容的常用材料，但其屏蔽和可见光透射率受到了很大的限制。通过解决屏蔽、导电与可视性能相互制约的矛盾，可有效提高电磁屏蔽与可视性能的兼容性。为此，报道了一种金属光子晶体透明膜。采用磁控溅射制备了ITO/Ag 为周期的金属光子晶体透明膜，研究了周期结构对样品屏蔽效能、透射率和方阻的影响。研究表明，随着单位周期金属膜厚的增加，可见光600~800 nm 波段透射率降低10%以上，可见光透射光谱变窄。同时400～600 nm 波长范围内透射率并没有随金属膜厚的增加而降低，甚至升高。随着单位周期金属膜厚增加，微波频段的屏蔽效能相应提高，方阻相应降低。实验证实：光子晶体膜的屏蔽效能与光子晶体中总金属膜厚不存在明确的因果关系，而是与“金属-电介质”的纳米周期结构相关。制备了一种屏效高达70 dB，方阻低达2.1 Ω ，透射率大于50%的光子晶体膜。

基于时域有限差分法/时域多分辨（FDTD/MRTD）混合方法研究了微粗糙光学表面与多体缺陷粒子的复合光散射问题。建立微粗糙光学表面与掩埋多体粒子复合散射模型，利用DB2小波尺度函数的移位内插原理，将计算区域分别划分为MRTD和FDTD方法区域，推导出复合散射场，计算微粗糙光学表面中掩埋多体粒子的复合散射截面，并与矩量法的结果比较以验证该方法的有效性。分析入射角、气泡粒子的个数、相对位置及深度等物性特征对微粗糙光学表面与掩埋多体粒子复合双站散射截面的影响。上述结果为光学无损检测、光学薄膜、微纳米结构的光学性能设计等领域提供技术支持。