模拟集成电路与系统 最经典的教科书级讲授 必须收藏

CMOS集成电路设计(拉扎维)答案 (2).pdf 非手写

集成电路版图设计，曾庆贵编著，扫描版。 虽然是高职高专教材，但作为本科生入门版图设计的参考书也没有什么问题，讲得不深，看完应大致能掌握版图设计基本方法。

拉扎维模拟CMOS集成电路设计第二章作业答案详解完整版

The Art of Analog Layout, 2nd Edition.pdf For Electrical Engineering courses in analog layout or professional layout designers. This text covers the issues involved in successfully laying out analog integrated circuits. Hastings provides clear guidance and does not stress theoretical physics or mathematical analysis of layouts. He emphasizes cross- sections of devices and carrier-based models of device operation as compared to the more common geometric and schematic representation of devices.

1、单元电路实现，两种实现方式都可以，一：2输入门；二：复杂CMOS门。 2、由单元电路连接成4位加法器。 3、Chartered 0.35工艺。 4、通过波形仿真、DRC、LVS。 首先熟悉cadence软件的使用，练习反相器的原理图和版图绘制，并仿真，运行DRC LVS 规则检查。

集成电路通用规范，GJB7400，认证规范及相应的检测总规范

光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。本书覆盖现代光刻技术的重要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺。在设备部分，对业界使用的主流设备进行剖析，介绍其原理结构、使用方法、和工艺参数的设置。在材料部分，介绍了包括光刻胶、抗反射涂层、抗水涂层、和使用旋图工艺的硬掩膜等材料的分子结构、使用方法，以及必须达到的性能参数。本书按照仿真技术发展的顺序，系统介绍基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、亚曝光分辨率的辅助图形、光源-掩模版共优化技术和反演光刻技术。如何控制套刻精度是光刻中公认的技术难点，本书有一章专门讨论曝光对准系统和控制套刻精度的方法。另外，本书特别介绍新光刻工艺研究的方法论、光刻工程师的职责，以及如何协调各方资源保证研发进度。

艾伦的模拟集成电路设计及其答案。

这个模拟COMS集成电路拉扎维的分开章节的答案当时老师留完一个章节的作业还给我们的答案，一共到16章