机械专业毕业论文-侧轴承杯加工工艺编制及夹具设计（有cad图+文献翻译+ppt）.zip
2021-12-12 09:02:22
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机械设计-大空间旋转喷头零件的数控加工工艺设计、编程与加工（有全套cad图+程序+中英文翻译）.zip
2021-12-12 09:02:20
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CM0S工艺是为重要的微电子制造技术，具有廉价、可批量制造、成品率高等优点。早期的CMOS工艺通常采用单阱工艺，单阱工艺只含一个阱（N阱或者P阱）。若为P型衬底则将NMOS直接制作在衬底上，而将PMOS寺刂作在N阱中；若为N型衬底则将NM0S制作在P阱中，而将PMOS直接制作在衬底上。为了减少闩锁效应（latch－up）及独立优化N沟和P沟器件，人们采用双阱工艺。图1所示为双阱CMOS，包含N阱、P阱、局部氧化硅（LOCal Oxidation of Silicon，Locos）隔离、N＋多晶硅栅，以及源漏区。典型的双阱CMOS工艺包括以下几步：
（1）轻掺杂深度扩散形成N阱和P阱。N阱
2021-12-09 15:03:50
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